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-115℃射流高低溫沖擊測試機 7-40 Chiller

簡要描述:【無錫(xi)冠亞(ya)】半(ban)(ban)導(dao)體控溫(wen)解(jie)決方案主(zhu)要(yao)產品包括半(ban)(ban)導(dao)體專?溫(wen)控設備(bei)(bei)、射流(liu)式?低溫(wen)沖(chong)擊(ji)測試(shi)機和半(ban)(ban)導(dao)體??藝廢?處理裝置等?設備(bei)(bei),?泛應?于半(ban)(ban)導(dao)體、LED、LCD、太陽能光(guang)伏等領域。-115℃射流(liu)高低溫(wen)沖(chong)擊(ji)測試(shi)機 7-40 Chiller

  • 產品型號:LTS-202
  • 廠商性質(zhi):生產廠家
  • 更新(xin)時間:2024-01-11
  • 訪  問  量:292
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞冷卻方式水冷式
價格區間10萬-50萬產地類別國產
儀器種類一體式應用領域化工,生物產業,電子,制藥,汽車



無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司的半導體控溫解決方案

主要產品包(bao)括半導(dao)體專?溫控設(she)備(bei)、射流式(shi)?低溫沖擊測試機和半導(dao)體??藝(yi)廢?處理裝(zhuang)置(zhi)等?設(she)備(bei),

?泛應?于半導體、LED、LCD、太陽能(neng)光伏(fu)等(deng)領域。




【 冠亞制冷 】半導體行業主營控溫產品:

半導體專溫控設(she)備

射流式?低溫(wen)沖擊測試機

半導體專用溫控設備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tong)

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循環風控溫裝置

半導體?低溫(wen)測試設備

電?設(she)備?溫低(di)溫恒(heng)溫測試冷熱源(yuan)

射流式高低溫沖擊(ji)測試機

快速溫(wen)變(bian)控溫(wen)卡盤

數據中心液(ye)冷解決(jue)方案


型號FLT-002FLT-003FLT-004FLT-006FLT-008FLT-010FLT-015
FLT-002WFLT-003WFLT-004WFLT-006WFLT-008WFLT-010WFLT-015W
溫度范圍5℃~40℃
控溫精度±0.1℃
流量控制  10~25L/min  5bar max15~45L/min  6bar max25~75L/min  6bar max
制冷量at10℃6kw8kw10kw15 kw20kw25kw40kw
內循環液容積4L5L6L8L10L12L20L
膨脹罐容積10L10L15L15L20L25L35L
制冷劑R410A
載冷劑硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等  (DI溫度需要控制10℃以上)
進出接口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG3/4ZG3/4ZG1ZG1
冷卻水口ZG1/2ZG1/2ZG3/4ZG1ZG1ZG1ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃1.5m3/h2m3/h2.5m3/h4m3/h4.5m3/h5.6m3/h9m3/h
電源380V3.5kW4kW5.5kW7kW9.5kW12kW16kW
溫度擴展通過增加電加熱器,擴展-25℃~80℃





-115℃射流高低溫沖擊測試機 7-40 Chiller

-115℃射流高低溫沖擊測試機 7-40 Chiller


射(she)流式高低溫沖擊(ji)測試機(ji)給芯(xin)片(pian)、模塊、集成電(dian)路板、電(dian)子元器件等提供精確且快速的(de)環境溫度(du)。

是對產品電性(xing)能(neng)測試、失效分析、可靠(kao)性(xing)評估的儀器設備。

溫度控(kong)制范圍:-120℃ 至+300℃,升降溫速率?常(chang)快(kuai)速,150℃?-55℃<10秒,zui??流量(liang):30m3/h;

實(shi)時監控被測(ce)IC真實(shi)溫度,實(shi)現閉環(huan)反饋,實(shi)時調整(zheng)?體溫度升降溫時間可(ke)控,程序化(hua)操作(zuo)、?動操作(zuo)、遠(yuan)程控制


  檢查光模塊高低溫測試設備的安(an)全裝置(zhi),包括超溫保(bao)(bao)護、過載保(bao)(bao)護、漏(lou)電保(bao)(bao)護等。確(que)保(bao)(bao)安(an)全裝置(zhi)完好無損,工作(zuo)正常(chang)。如有(you)異常(chang),應及(ji)時維修或更換(huan)。

  6、設備運行測試(shi)

  定期(qi)進(jin)行(xing)光模(mo)塊高(gao)低溫(wen)(wen)測試(shi)設備(bei)運行(xing)測試(shi),以檢查設備(bei)的(de)(de)性(xing)能(neng)和(he)可靠(kao)性(xing)。在(zai)測試(shi)過(guo)程中(zhong),應(ying)逐步(bu)增加溫(wen)(wen)度(du)(du)和(he)濕度(du)(du)條件,并(bing)(bing)觀(guan)察(cha)設備(bei)的(de)(de)反應(ying)和(he)讀(du)數是否正(zheng)常(chang)。如有(you)異(yi)常(chang),應(ying)及時排查問(wen)題并(bing)(bing)修復。

  7、記(ji)錄和維護記(ji)錄

  對光(guang)模(mo)塊(kuai)高低(di)溫測試設備每次維護(hu)保養進行記(ji)錄,包括檢查的(de)項目、發現的(de)問(wen)題(ti)、采取的(de)措(cuo)施等。保持記(ji)錄的(de)完(wan)整性和(he)準確性,以(yi)便追蹤和(he)管理(li)設備的(de)維護(hu)歷史。

  總(zong)之,光模塊高低(di)溫測試(shi)設備(bei)的維護保(bao)養是確(que)保(bao)設備(bei)正常運行和使用壽命的節,通過定期檢查、清潔、維修(xiu)和記(ji)錄等方法(fa),可(ke)以有效地提(ti)升設備的性能和可靠性,降低(di)故障率,從而(er)為(wei)半導體(ti)芯片(pian)的研發和生產提供可靠的測試(shi)保障。



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