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簡要描述：【無錫冠亞】制冷加(jia)熱溫(wen)度控(kong)制系(xi)(xi)統 生產(chan)環節高低(di)溫(wen)系(xi)(xi)統，應(ying)用于對玻璃(li)反應(ying)釜、金(jin)屬反應(ying)釜、生物(wu)反應(ying)器進行升降(jiang)溫(wen)、恒溫(wen)控(kong)制，尤其(qi)適(shi)合在反應(ying)過(guo)程(cheng)中有需熱、放熱過(guo)程(cheng)控(kong)制。解決化(hua)學醫藥(yao)工(gong)業用準(zhun)確控(kong)溫(wen)的特殊裝置，用以滿足(zu)間歇反應(ying)器溫(wen)度控(kong)制或持續不斷的工(gong)藝進程(cheng)的加(jia)熱及冷卻、恒溫(wen)系(xi)(xi)統。
產品型號：SUNDI-175廠商性質：生產廠家更新時間：2024-01-11訪(fang) 問 量：256| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價格區間 | 10萬-20萬 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,生物產業,石油,制藥,綜合 |
無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反(fan)應釜(fu)冷(leng)(leng)熱源動(dong)態恒(heng)溫(wen)控制(zhi)、雙層玻璃反(fan)應釜(fu)冷(leng)(leng)熱源動(dong)態恒(heng)溫(wen)控制(zhi)、
雙層反應釜冷熱(re)源(yuan)(yuan)動態恒溫控制(zhi)、微通(tong)道反應器冷熱(re)源(yuan)(yuan)恒溫控制(zhi)；
小型恒(heng)溫控制系(xi)統(tong)、蒸(zheng)飽系(xi)統(tong)控溫、材料(liao)低溫高(gao)溫老(lao)化(hua)測(ce)試、
組合化學冷源熱(re)源恒(heng)(heng)溫(wen)控制、半導體設備冷卻加熱(re)、真空室制冷加熱(re)恒(heng)(heng)溫(wen)控制
反應釜配(pei)套制冷(leng)加熱控溫系統應用：
反應(ying)釜(fu)配套(tao)制冷加(jia)熱控(kong)溫系(xi)統?泛應用于(yu)?油(you)、化(hua)?、橡膠、染料、醫藥(yao)、?品等(deng)?產型用戶(hu)和各種科研實驗項?的研究用來完成?藝過(guo)程的容器(qi)。無錫冠亞制冷加熱控溫(wen)(wen)系(xi)統控溫(wen)(wen)時溫(wen)(wen)度(du)穩(wen)定、升降溫(wen)(wen)速率快、可(ke)連續(xu)穩(wen)定運(yun)行、實時記錄反(fan)應過(guo)程溫度(du)。
微通(tong)道反應器配套制(zhi)冷加熱控(kong)溫系統應用：
微(wei)通道反應器(qi)配套制(zhi)冷加(jia)熱控溫系統可執行不同類型的反應，可用于微反應(ying)丁藝開發及精(jing)細化學品合(he)成。無錫冠亞(ya)制冷加熱控溫(wen)(wen)系統寬溫(wen)(wen)度范圍，?精度智能溫(wen)(wen)控，單(dan)流體(ti)控溫(wen)(wen)，無需更導(dao)熱介質穩(wen)定?產(chan)。
新能源汽車制(zhi)冷加熱(re)測試(shi)系統應用：
新能源汽?行業，制冷(leng)加熱控溫系(xi)統主要應(ying)用在測(ce)試(shi)(shi)、檢(jian)測(ce)臺架和材(cai)料測(ce)試(shi)(shi)等環節。無錫冠亞(ya)制冷(leng)加熱(re)控溫系統可同時對多個樣品進行溫度(du)控制，控制系統(tong)可記錄與導出測試(shi)過程中的溫度(du)數據，可滿??部(bu)分元件在特定的溫度(du)變化條(tiao)件下測試(shi)。
半導體(ti)行業制冷加(jia)熱測試系統應用：
制冷(leng)加熱控溫系統(tong)應(ying)用于(yu)半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。芯(xin)片、模塊、集(ji)成電(dian)路板、電(dian)子元(yuan)器件等提供準(zhun)確且(qie)快(kuai)速的環境溫度。無錫(xi)冠亞制(zhi)冷加熱控(kong)溫系統是對產(chan)品電(dian)性能測試、失效分析、可(ke)靠性評(ping)估的儀器設備。
型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質溫度范圍 | -10℃～+200℃ | ||||||||||||
控制系統 | 前饋PID ,無(wu)模型自建樹算法，PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料(liao)溫度控制與設備(bei)出口溫度控制模式 可(ke)自由(you)選擇(ze) | ||||||||||||
溫差控制 | 設備出口溫(wen)(wen)度與反應物(wu)料溫(wen)(wen)度的溫(wen)(wen)差可控制、可設定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制(zhi)5條程(cheng)序，每條程(cheng)序可編制(zhi)40段步驟 | ||||||||||||
通信協議 | MODBUS RTU 協議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或(huo)4～20mA或(huo)通(tong)信給(gei)定（默認PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設備導熱(re)介質 溫(wen)度(du)、出口溫(wen)度(du)、反應器物料溫(wen)度(du)（外接溫(wen)度(du)傳感器）三點溫(wen)度(du) | ||||||||||||
導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機 | 海立 | 艾(ai)默生谷輪/丹佛(fo)斯渦旋(xuan)壓縮(suo)機 | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨(peng)脹閥 | ||||||||||||
蒸發器 | 丹(dan)佛斯(si)/高力板式(shi)換熱(re)器(qi) | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色(se)觸(chu)摸屏，溫度曲線顯示(shi)、記錄 | ||||||||||||
安全防護 | 具有自我(wo)診(zhen)斷功能；冷凍機(ji)過載保護(hu)；高壓(ya)壓(ya)力開(kai)關，過載繼電(dian)器、熱保護(hu)裝置等多種安(an)全保障(zhang)功能。 | ||||||||||||
密閉循環系統 | 整個(ge)系統為(wei)全(quan)密閉系統，高(gao)溫時不(bu)會有油霧、低溫不(bu)吸收空氣(qi)中(zhong)水(shui)份，系統在運(yun)行(xing)中(zhong)不(bu)會因為(wei)高(gao)溫使壓力上升(sheng)，低溫自動補充導熱(re)介質。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形(xing)尺(chi)寸 (風）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水）cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / | |||||||
制冷加熱溫度控制系統 生產環節高低溫系統
制冷加熱溫度控制系統 生產環節高低溫系統
2、生物醫藥實(shi)驗(yan)(yan)：生物醫藥實(shi)驗(yan)(yan)中(zhong)，細胞、蛋白質等生物分(fen)子的活(huo)性會受到溫度(du)的影響(xiang)。藥物溶劑分(fen)離過程溫度(du)控制系統能夠提供穩(wen)定的溫度(du)環境，確保實(shi)驗(yan)(yan)結(jie)果的準確性。
3、化學(xue)(xue)反應實驗：化學(xue)(xue)反應實驗中，藥(yao)物(wu)溶劑分離(li)過(guo)程溫(wen)度控制系統能夠提供準確的(de)溫(wen)度控制，為這類實驗提供穩定的(de)環境(jing)。
4、環境(jing)模(mo)(mo)擬(ni)實驗(yan)：在(zai)環境(jing)模(mo)(mo)擬(ni)實驗(yan)中，需要模(mo)(mo)擬(ni)不(bu)同氣候條(tiao)件下的環境(jing)對物(wu)體或生物(wu)的影響。藥物(wu)溶劑(ji)分(fen)離(li)過程溫度(du)控制系統(tong)可以(yi)提(ti)供穩定的溫度(du)環境(jing)，為這類實驗(yan)提(ti)供可靠的保障(zhang)。
5、電子(zi)行(xing)業應用(yong)：在電子(zi)行(xing)業中(zhong)，藥物溶劑分(fen)離過程溫(wen)度控制系統被廣泛應用(yong)于芯片測試(shi)、電路板老化等實(shi)驗中(zhong)，提供準確(que)的溫(wen)度控制和穩(wen)定的實(shi)驗環境。
藥物溶劑(ji)分離(li)過程溫度控制(zhi)(zhi)系統作(zuo)為一種(zhong)實驗設備，在(zai)各種(zhong)實驗中發揮著作(zuo)用，隨(sui)著科技的(de)不斷進(jin)步和應(ying)用需求的(de)不斷擴大，藥物溶劑(ji)分離(li)過程溫度控制(zhi)(zhi)系統的(de)性(xing)能(neng)和功能(neng)也在(zai)不斷提升和完(wan)善。
