TCU制(zhi)冷加熱循環裝置(zhi)是在化學、制(zhi)藥(yao)行業(ye)的重要(yao)溫(wen)度控制(zhi)設備，用于各(ge)種反應(ying)器，反應(ying)器提供熱源和冷源的循環裝置(zhi)，在合成反應(ying)過程中，通常需(xu)要(yao)加熱，熱絕緣(yuan)或(huo)冷卻，如果操作或(huo)不正確(que)(que)的控制(zhi)不正確(que)(que)，可能導(dao)致有缺陷，這不利于生產。

　　1、高(gao)溫和低溫集成功能有效地確保了反應器加熱，冷卻溫度(du)控制的準(zhun)確性，通過自動(dong)化溫度(du)調節提高(gao)了生(sheng)產(chan)效率，并為用戶節省了成本(ben)。

　　2、采(cai)用(yong)機(ji)械制冷(leng)(leng)(leng)降(jiang)溫，具有加熱(re)和制冷(leng)(leng)(leng)功能。一般(ban)分為3個部分：制冷(leng)(leng)(leng)系(xi)(xi)統(tong)、加熱(re)系(xi)(xi)統(tong)、控制系(xi)(xi)統(tong)。為用(yong)戶工作時提(ti)供一個冷(leng)(leng)(leng)熱(re)受(shou)控，溫度均(jun)勻(yun)恒定(ding)的液體環境。

　　3、在進行制(zhi)冷加熱(re)控溫(wen)的(de)(de)時候，配套的(de)(de)反應器(qi)制(zhi)冷加熱(re)循(xun)環(huan)一體(ti)機進行控溫(wen)達到預期的(de)(de)溫(wen)度范(fan)圍，這(zhe)整個過程會使得產(chan)生一定的(de)(de)化學反應，產(chan)生熱(re)量，這(zhe)個反應過程容(rong)易被外界所影響(xiang)，所以，反應器(qi)制(zhi)冷加熱(re)循(xun)環(huan)一體(ti)機的(de)(de)放置環(huan)境(jing)比較重(zhong)要，建議選擇通風陰涼(liang)的(de)(de)靠譜房間(jian)放置。

　　4、可以(yi)配套不同(tong)容(rong)積大小的(de)反應釜(fu)進行制冷加熱(re)控(kong)溫(wen)，由于不同(tong)大小的(de)反應釜(fu)帶(dai)來的(de)熱(re)容(rong)量不同(tong)，所以(yi)其吸熱(re)或者放熱(re)的(de)能力(li)也不同(tong)，因(yin)此(ci)，選型需要提供準(zhun)確反應釜(fu)大小、溫(wen)度要求、材質等工(gong)況要求，避免選型或大或小導致設備達不到預期的(de)溫(wen)度要求。

5、設(she)備電源在380V穩定，因此檢(jian)查(cha)每(mei)次使用(yong)前的其他(ta)電氣部件(jian)(jian)是(shi)否存(cun)在問題(ti)，且用(yong)戶(hu)需(xu)要根據其特定條件(jian)(jian)選(xuan)擇實際情況。